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?JC系列磁控濺射鍍膜機
  • 用途及特點(diǎn)
  • 規格參數
    JC系列用途及特點(diǎn)
    Use and Features
     
    ●磁控濺射鍍膜設備主要用于在基片上鍍制金屬、半導體、電介質(zhì)、多元素化合物或混和物。利用濺射法可制備金屬膜、半導體膜、絕緣膜、硬質(zhì)膜、耐熱膜、耐腐蝕膜、超導膜、磁性膜、光學(xué)膜等各種特殊性能的薄膜。
    ●基片尺寸適應范圍廣,可鍍制多種材料,工藝可控性好、靈活性強、重復性高、基片溫升小、膜層附著(zhù)力強,計算機全自動(dòng)控制,******性高。且安裝維護方便,占地位置小。
    JC系列磁控濺射鍍膜機
    Series JC Magnetron Sputtering Coater
     
    主要機型及參數
    Main models and parameters
    型號
    Model
    應用特點(diǎn)
    Application field
    裝片工作臺特點(diǎn)
    Features of film loading bench
    基片尺寸
    Size of substrate
    產(chǎn)量/每小時(shí)
    1μ鋁層厚度
    Output per hour 1μm aluminum coating thickness
    厚度
    均勻性
    thickness homogeneity
    真空系統
    Vacuum system
    JC400-1/D 適合科研、生產(chǎn)硅片及砷化鎵片
    Scientific research,production of silicon film and gallium arsenide film
    全自動(dòng)盒對盒送片,濺射源數量可按工藝調整,低塵粒
    Full automatic box-to-box film advance;quantity of sputtering source to be adiusted as per the process;low in density of dust particles
    4~6″ 40 ±5% 低溫泵加
    分子泵系統
    Cryogenic pump system added with molecular pump
    JC500-1/D 適用于圓形片狀工件
    Circular sheet work-piece
    工件可進(jìn)行公轉,水平裝片
    Revolution of work-piece available;horizontal film loading
    4″ 16 ±8% 分子泵系統
    Turbomolecular pump system
    JC500-5/D 適用于矩形片狀工件
    Rectangular sheet work-piecevv
    工件可進(jìn)行公轉,垂直裝片
    Revolution of work-piece available;vertical film loading
    150x150mm 10 ±8% 分子泵系統
    Turbomolecular pump system
    JC600-1/D 適用于矩形片狀工件
    Rectangular sheet work-piecevv
    工件架為十邊拄形,垂直裝片
    work-piece holder in decagonal column shape;vertical film loading
    280x100mm 20 ±8% 擴散泵系統
    Diffusion pump system
    JC600-2/D 適合科研、生產(chǎn)砷化鎵基片線(xiàn)寬亞微米級
    Scientific research,production of gallium arsenide film with line width at submicron level
    工件可進(jìn)行自傳、公轉
    水平裝片
    Rotation and revolution of work-piece available;horizontal film loading
    3″ 24 ±5% 低溫泵系統
    Cryogenic pump system
    JC650-1/D 適用于矩形或圓形片狀工件
    Rectangular or circular sheet work-piece
    工件可進(jìn)行公轉,水平裝片
    revolution of work-piece available;horizontal film loading
    Φ100mm 10 ±5% 分子泵系統
    Turbomolecular pump system
     

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